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シノン電気産業株式会社
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会社情報

沿革

沿革

1982年12月 文京区本駒込に会社創立
1983年3月 東京都荒川区西日暮里2-9-6に移転
シノン電気産業株式会社を設立する
資本金5,000,000円
1986年7月 資本金を10,000,000円に増資
1988年12月 資本金を15,000,000円に増資
1989年7月 耐熱導電性ICトレイを開発
国内外の販売を開始する
1991年9月 資本金を30,000,000円に増資
1991年12月 本社を東京都荒川区西日暮里2-25-1に移転、営業を開始する
1995年10月 資本金を51,000,000円に増資
1997年5月 千葉県流山市にテクニカルセンターを開設
ICトレイ用金型及び精密部品の開発、試作及び製作を開始する
2003年11月 東京都荒川区東日暮里6-60-10に移転
2006年6月 株式会社サイテックスの子会社となる
2006年10月 SHINON LIMITED(香港商旭磐電子股份有限公司) 設立
2006年12月 SHINON LIMITED TAIWAN BRANCH(香港商旭磐電子股份有限公司台灣分公司) 設立
2007年2月 nanoShinon 商標出願 販売を開始する
2007年4月 SHINON LIMITED TAIWAN BRANCH(H.K.) ISO9001 : 2000 認証取得
2008年8月 GOLDPAR PRECISION SDN.BHD.JOHOR.MALAYSIA にて SHINON IC TRAY 委託生産
2009年1月 SHINON LIMITED TAIWAN BRANCH(H.K.) ISO14001 : 2004(CNS14001) 認証取得
2009年3月 株式会社サーモロン・ジャパン設立
2009年5月 テクニカルセンターを群馬県太田市に移転
2011年5月 静盘(上海)电气贸易有限公司設立
2011年8月 群馬県太田市にシノン電気産業株式会社 太田事業所を開設